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掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)在材料使用上要注意哪些事項(xiàng)?

更新時(shí)間:2022-11-24  |  點(diǎn)擊率:1170
  掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)是將二維圖案轉(zhuǎn)印到平坦基板上的方法??梢酝ㄟ^以下兩種基本方法之一實(shí)現(xiàn)圖案化:直接寫入圖案,或通過掩模版/印章轉(zhuǎn)移圖案。限定的圖案可以幫助限定襯底上的特征(例如蝕刻),或者可以由沉積的圖案形成特征。
 
  通過計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)(CAD)定義圖案模式。多數(shù)情況下,這些特征是使用抗蝕劑形成的,可以使用光(使用光致抗蝕劑),電子束(使用電子束抗蝕劑)或通過物理沖壓(不需要抗蝕劑,也叫納米壓?。﹣矶x圖案特征。圖案的特征可以被轉(zhuǎn)移到另一個(gè)層蝕刻,電鍍或剝離。
 

 

  掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)的技術(shù)領(lǐng)域:
  根據(jù)所需的特征,有幾種不同的光刻方法。蕞常見的類型是光學(xué)光刻和電子束光刻。我們還提供軟和直接寫光刻。
  下表比較了我們可用的一些常見光刻方法。批處理是指能夠一次對(duì)整個(gè)樣品進(jìn)行圖案化的能力,例如通過光掩?;蚴褂脡耗5膶懭敕椒枋隽瞬牧鲜侨绾涡纬蓤D案,例如通過UV光,電子束,或直接機(jī)械接觸。
 
  掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)的用料:
  1、光刻膠:
  抗蝕劑是懸浮在溶劑中的聚合物。根據(jù)抗蝕劑的類型,可以使用紫外線或電子束選擇性地將其除去。可以將所有抗蝕劑大致分為正抗蝕劑或負(fù)抗蝕劑,常見的是正抗蝕劑。在正性抗蝕劑中,在顯影抗蝕劑后將暴露的區(qū)域除去。在負(fù)性抗蝕劑中,在顯影抗蝕劑后仍保留了暴露的區(qū)域。
  不同類型的光刻使用不同類型的抗蝕劑,因此您需要檢查哪種抗蝕劑適合您的工藝。
 
  2、顯影劑:
  顯影劑是用于在曝光后蝕刻掉光致抗蝕劑的基礎(chǔ)。幾種可用的顯影劑:AZ 726、AZ 300、AZ 400K、MF 319和Microposit Developer。可以在設(shè)備上使用顯影劑。需要檢查每個(gè)設(shè)備是否允許或允許哪些顯影劑。
 
  3、掩模版:
  掩模版用于在曝光期間阻擋光線,因此僅曝光所需圖案內(nèi)的光刻膠。如果在多個(gè)樣本中需要相同的模式,這將很有用。掩模是具有一層鉻和一層光刻膠的玻璃或熔融石英襯底。光刻膠以所需的圖案曝光,然后顯影。之后,使用鉻蝕刻在掩模中設(shè)置圖案。
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