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Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x是如何測(cè)量氧化釔?

更新時(shí)間:2022-11-09  |  點(diǎn)擊率:1129
  Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x用于氧化釔(Y?O?)涂層厚度測(cè)量。它可快速準(zhǔn)確地繪制大型氧化鋁陶瓷圓盤上的抗等離子涂層Y?O?層厚度。下面我們來看看用Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x測(cè)量氧化釔(Y?O?)涂層厚度的具體情況。
 
  Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x測(cè)量氧化釔(Y?O?)的案例分析:
  氧化釔(Y?O?)是一種非常有前景抗等離子涂層材料,且在集成電路中特征尺寸的持續(xù)減小應(yīng)用在化學(xué)機(jī)械拋光后的高度平整工藝用作化學(xué)機(jī)械平面化(CMP)的磨料,具有獷泛的應(yīng)用范圍。氧化釔(Y?O?)由于其較高的溫度穩(wěn)定性和對(duì)具有高氧親和力的堿性熔體的出色耐受性,還用于許多特殊應(yīng)用,例如絕緣體、玻璃、導(dǎo)電陶瓷、耐火材料、著色劑。其他應(yīng)用包括各種領(lǐng)域的透光材料,例如透鏡、棱鏡或玻璃,作為金屬-鐵電-絕緣體-半導(dǎo)體中合適的緩沖層,用于單晶體管 FeRAM 的結(jié)構(gòu)。在本應(yīng)用說明中,Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x用于在自動(dòng)測(cè)量氧化鋁陶瓷盤上氧化釔的厚度分布圖。
 
  為什么使用它,有什么目的和方法:
  被測(cè)量的樣品是一個(gè)直徑為560mm表面帶有氧化釔(Y?O?)層的氧化鋁圓盤。使用Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x進(jìn)行測(cè)量,光譜范圍為370nm-1020nm,能夠測(cè)量15nm至100um的涂層厚度。該機(jī)型通過旋轉(zhuǎn)和線性載物臺(tái)移動(dòng)樣品來繪制待測(cè)樣品厚度分布圖。通過軟件行成的圖案包括樣品表面(R,theta)位置的208個(gè)點(diǎn)。
 
  儀器的測(cè)量結(jié)果:
  在下面的圖像中,氧化釔(Y?O?)層的理論值(紅線)和樣品表面反射光譜(綠線)與厚度分布圖一并呈現(xiàn)說明,如軟件上所見,樣品經(jīng)過數(shù)次重復(fù)性掃描測(cè)量以確定工具的準(zhǔn)確性和可重復(fù)性,并得出統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)。
 

 

  結(jié)論:
  使用Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x成功的測(cè)量鋁陶瓷盤的氧化釔(Y?O?)層的厚度分布。通過厚度測(cè)量并分析統(tǒng)計(jì)區(qū)域的厚度分布和均勻性,快速且無損地測(cè)量了薄膜厚度以保護(hù)陶瓷部件在等離子腔體中不受損壞。Thetametrisis膜厚測(cè)量?jī)x是一種快速、準(zhǔn)確測(cè)量大面積或預(yù)選位置上薄膜或疊層薄膜解決方案。

 

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