納米壓印機具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準系統(tǒng)，支持尺寸從碎片到最大150毫米。
該工具支持多種標準光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準和納米壓印光刻。納米壓印機提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應從初學者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學和研發(fā)應用程序的理想選擇。
對于壓印工藝，本產品允許基板的尺寸從小芯片尺寸到直徑150毫米不等。納米技術應用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括印章的釋放機制。本產品專有的卡盤設計可提供均勻的接觸力，以實現高產量的壓印，該卡盤設計既支持軟印章也支持硬印章。
納米壓印機的使用特征：
1、頂部和底部對準能力；
2、高精度對準臺；
3、自動楔形誤差補償機制；
4、電動和配方控制的曝光間隙；
5、支持最新的UV-LED技術；
6、最小化系統(tǒng)占地面積和設施要求；
7、分步流程指導；
8、遠程技術支持；
9、多用戶概念；
10、敏捷處理和光刻工藝之間的轉換；
11、臺式或帶防震花崗巖臺的單機版。
