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納米壓印機在日常使用上有九大特色

更新時間:2021-01-04  |  點擊率:1229
  光刻技術(shù)實際上是一種精密表面加工技術(shù),它借助于一定波長的激光光源以及選擇性的化學腐蝕和刻蝕技術(shù)把設計的微納圖案轉(zhuǎn)移到硅基板上。但是隨著集成電路功能和密度的提升傳統(tǒng)的光刻技術(shù)已經(jīng)難以滿足當前對線寬越來越小的需求。但是打破衍射極限的大型光刻設備又極其昂貴。為了擺脫光學衍射極限和克服高成本的限制,一種操作簡單,成本低廉的納米壓印技術(shù)產(chǎn)生了。納米壓印的技術(shù)核心是充分利用機械能將剛性模板上的圖案轉(zhuǎn)到抗蝕劑上,之后再借助溶脫、剝離、刻蝕等將圖案轉(zhuǎn)移到基板上。到目前為止壓印技術(shù)已經(jīng)發(fā)展出來多種類型,典型的包括熱塑壓印技術(shù)、紫外固化壓印、微接觸納米壓印、激光輔助納米壓印和滾軸式納米壓印技術(shù)等。
 
  該款納米壓印機一種非常靈活的儀器。它可提供加熱型納米壓印、UV紫外納米壓印以及真空納米壓印。模塊化系統(tǒng)可根據(jù)特定需求輕松配置,體積小,容易存放,大可處理210mm(8英寸)圓形的任何尺寸印章和基材。該系統(tǒng)是手動裝卸印章和模板,但所有處理器都是全自動的,軟件用戶可以*控制壓印過程。

  特色:
  1、體積小巧,容易存放,桌面型;
  2、輕微復制微米和納米級結(jié)構(gòu);
  3、熱壓印溫度高達200℃;
  4、可選的高溫模塊,適用于250℃;
  5、可選的UV模塊,適用于405nm曝光;
  6、真空納米壓?。ㄇ皇铱沙檎婵罩?.1mbar);
  7、納米壓印壓力高達11bar;
  8、溫度分布均勻、讀數(shù)準確;
  9、筆記本電腦全自動控制,工藝配方編輯簡單,*靈活控制,自動記錄數(shù)據(jù)。
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